等離子體除臭工藝流程：具體方法介質(zhì)阻擋放電法介質(zhì)阻擋放電是將電介質(zhì)插入放電空間的一種氣體放電法，介質(zhì)可覆蓋在一個或兩個電極上，還可懸掛在放電空間中間。由于介質(zhì)的存在限制了微放電中帶電粒子的運動，使微放電均勻穩(wěn)定地分布在電極之間。因此，介質(zhì)阻擋放電表現(xiàn)為均勻、漫射和穩(wěn)定，也表現(xiàn)出低氣壓下輝光放電的優(yōu)點。

　　基本原理利用等離子體中的大量活性粒子對有毒、有害、難降解的氣體污染物進行直接分解去除。離子發(fā)生裝置發(fā)射的離子與空氣中的塵埃粒子及固體顆粒碰撞，使顆粒荷電產(chǎn)生聚合作用，形成的較大顆粒靠自身重力沉降下來，達到凈化目的,發(fā)射的離子還可以與室內(nèi)靜電、異味等相互發(fā)生作用，同時有效地破壞空氣中細菌生存的環(huán)境，降低室內(nèi)細菌濃度，并將其*消除。通過前沿陡峭、脈寬窄(納秒級)的高壓脈沖電暈放電，在常溫常壓下獲得非平衡等離子體，產(chǎn)生大量高能電子和·O、·OH等活性粒子，這些高能活性粒子具有*的離子能量，可將含硫化合物和其他烴類、醇類氧化成CO2和H2O，對惡臭中的有機物分子進行中和分解，使污染物zui終轉(zhuǎn)化為無害物質(zhì)。高能離子凈化系統(tǒng)在歐洲主要應用于醫(yī)院、辦公樓、公眾大廳等，近些年逐步開發(fā)應用于污水處理，荷蘭、瑞典等國的應用實例很多。有機物在等離子體中的降解機理，主要包括以下過程:(1)在高能電子作用下，強氧化性自由基·O、·OH、·HO2的產(chǎn)生。

　　（2）有機物分子受到高能電子碰撞被激發(fā)，原子鍵斷裂形成小碎片基團和原子。

　　(3)  O與OH以及HO2與激發(fā)原子、有機物分子、破碎的基團、其他自由基等發(fā)生一系列反應，有機物分子zui終被氧化降解為CO、CO2、H2O;惡臭組分經(jīng)過處理后，zui終轉(zhuǎn)變?yōu)镾O3、NOx、CO2、H2O等小分子，由于產(chǎn)物濃度極低，均能被周邊的大氣所接受，因此無二次污染。